多靶激光溅射混合雾化沉积管式炉 参考价：面议
OTF-1200X-PLD是一款多靶激光溅射混合雾化沉积管式炉，此款设备主要包括混气装置，加热炉，基片加热腔体、靶材溅射腔体和气压控制系统组成。可与准分子激光器...
双温区管式炉 参考价：面议
双温区管式炉系列是通过CE认证的，其Z高温度可达到1200℃，并可通过调节两个温区的控温程序使炉管内温场形成一温度梯度。两个温区分别由两个独立的温控系统来控制，...
小型真空管式炉 参考价：面议
小型真空管式炉是一款通过CE认证的小型高温管式炉，其炉管采用的是高纯氧化铝刚玉管，加热元件为硅碳棒。仪器本身带有两个真密封法兰（法兰上已安装机械压力表和不锈钢截...
1100℃小型高温高压管式炉--OTF-1200X-HP-30A 参考价：面议
OTF-1200X-HP-30A是一款小型的高温高压管式炉，其炉管法兰上安装有高压电磁阀和压力传感器，所以当管内气压高于设定值时，电磁阀会自动打开排气，使管内气...
双温区立式高温高压炉--OTF-1200X-VTHP 参考价：面议
OTF-1200X-VTHPΦ60是一款双温区立式高温高压炉，炉管采用镍基合金钢管制作，具有较高的蠕变强度和抗氧化性。炉管可承受的Z高温度为1100℃（...
1200℃双温立式炉-OTF-1200X-4-VT-II 参考价：面议
OTF-1200X-4-VT-II是通过CE认证的双温区立式管式炉，其炉管直径可制作为100mm,适合于对样品在真空或气氛保护环境下进行吊烧和淬火。炉体下端安装...
颗粒悬浮立式管式炉--OTF-1200X-S-FB 参考价：面议
OTF-1200X-S-FB是一款流化床立式管式炉，专门针对粉末表面沉积的CVD实验，炉管为高纯石英管，炉管内部嵌有一多孔石英板，石英板的孔径为5-15um.粉...
4英寸真空立式淬火炉--OTF-1200X-4-VTQ 参考价：面议
OTF-1200X-4-VTQ是立式可开启真空管式淬火炉，石英管直径100mm，配有一个密封的液体容器用于样品淬火，温度从Z高1200度到冰水或油，可用于研究材...
1600℃双温区回转炉--GSL-1600X-R60-II 参考价：面议
GSL-1600X-R60-II是一款高温双温区回转炉。此款设备专门设计对粉体在高温状态下，进行均匀的烧结。
1200℃单温区可倾斜旋转炉--OTF-1200X-4-R 参考价：面议
OTF-1200X-4-R 是一款单温区旋转管式炉，为煅烧无机化合物获得较好的*性而设计。特别对锂离子电池负极材料的制备效果*，可提高导电性。或者应用在粉体材料...
1200°C迷你型快速加热冷却炉 参考价：面议
OTF-1200X-50-SL是一款CE认证的可滑动管式炉，配置外径50x 1000mm石英管，工作温度Z高达1200°C。炉底安装一对滑轨，可滑动。加热和冷却...
小型1000℃RTP炉 参考价：面议
OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速热处理管式炉，配有4" 石英管和真空法兰， 它是专为半导体或太阳能电池基片（Z大达3“）的退火而设计，采用10K...
5英寸近距离蒸发镀膜炉（CSS）OTF-1200X-RTP-II-5 参考价：面议
OTF-1200X-RTP-II-5是一款快速热处理炉，其炉腔体是一直径为11英寸的石英管。此款设备专门实际针对于热蒸发或CSS（Close Spaced Su...
1100℃高压炉-OTF-1200X-HP-55 参考价：面议
OTF-1200X-HP-55是一款通过CE认证的开启式管式炉，其炉管采用无缝镍基合金管,此款设备专为高温高压实验设计，Z高压力高达20MPa，Z高温度可达11...
12升1700℃高温氢气炉 参考价：面议
12升1700℃高温氢气炉是一款通过CE认证的高温氢气炉，此款仪器专门针对于材料在氢气环境或惰性气体环境进行烧结或是退火，其Z高温度可高达1700℃。KSL-1...
带有光学窗口的高温高压炉--OTF-1200X-HP-III-W 参考价：面议
OTF-1200X-HP-III-W是一款带有石英窗口的高温高压炉，炉管采用高温镍基合金钢制作，可承受的Z高温度为1100℃。两端法兰上都安装有石英窗口，可允许...
真空热压炉--OTF-1200X-VHP4 参考价：面议
OTF-1200X-VHP4开启式立式炉，标配dia4"石英管真空密封，20T电动压力机。是在真空高压下制备致密化合物材料的理想工具，在5吨压力下可键合多层基片...
气体可流动高温高压管式炉--OTF-1200X80-HPV-III-GF 参考价：面议
OTF-1200X80-HPV-III-GF是一款高温高压管式炉，炉体拥有三个温区。仪器中配有气体控制柜，可使炉管内的气压在升降温过程中保持恒定，特别是对于氧化...
双管滑动快速加热冷却炉-OTF-1200X-4-C4LVS 参考价：面议
OTF-1200X-4-C4LVS 双管炉是 一个特殊的双管CVD系统,是专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究，通...
单管滑动快速加热冷却炉-OTF-1200X-80SL 参考价：面议
单管滑动快速加热冷却炉OTF-1200X-80SL是一款CE认证的可滑动管式炉，配置dia3"x55" 石英管，工作温度Z高达1200°C。炉底安装一...
小型1000℃RTP炉-OTF-1200X-4-RTP 参考价：面议
OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速热处理管式炉，配有4“ 石英管和真空法兰， 它是专为半导体或太阳能电池基片（Z大达3“）的退火而设计，采用10K...
1200℃双温区可倾斜旋转炉--OTF-1200X-4-R-Ⅱ 参考价：面议
OTF-1200X-4-R--Ⅱ是一款通过CE认证的双温区可旋转管式炉，此款设备专门针对于材料的混合烧结，特别适用于锂离子电池材料的混合烧结，如 LiFePO4...
6单温区CVD真空管式炉 参考价：面议
GSL-1100X-6-S 是一款炉管内径为6“ 的真空管式炉 , 它可以在Z大5“的基片上生长多种薄膜（在不同气氛下）. 该炉的Z高工作温度为 1100...
1100℃ 多工位管式炉-GSL-1100X-S 参考价：面议
GSL-1100X-S是一款已通过CE认证的小口径管式炉（1～2“直径）,是专为制备小样品而设计。Z高温度可达1100℃。标配内包含不锈钢密封法兰与石英管，客户...
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